6 inç HPSI SiC substrat levhası Silikon Karbür Yarı-yalıtkan SiC levhaları

6 inç HPSI SiC alt tabaka levhası Silikon Karbür Yarı-yalıtkan SiC levhaları Öne Çıkan Resim

Kısa Açıklama:

Elektronik ve optoelektronik endüstrisine yönelik yüksek kaliteli tek kristal SiC levha (SICC'den Silikon Karbür).3 inç SiC levha, 3 inç çapındaki yeni nesil yarı iletken malzeme, yarı yalıtımlı silikon karbür levhalardır.Plakalar güç, RF ve optoelektronik cihazların imalatına yöneliktir.

Bize e-posta gönder

Ürün ayrıntısı

Ürün etiketleri

PVT Silisyum Karbür Kristal SiC Büyüme Teknolojisi

SiC tek kristali için mevcut büyütme yöntemleri temel olarak aşağıdaki üç yöntemi içerir: sıvı faz yöntemi, yüksek sıcaklıkta kimyasal buhar biriktirme yöntemi ve fiziksel buhar fazında taşıma (PVT) yöntemi.Bunlar arasında PVT yöntemi, SiC tek kristal büyümesi için en çok araştırılan ve olgun teknolojidir ve teknik zorlukları şunlardır:

(1) "Katı - gaz - katı" dönüşümü yeniden kristalleştirme işlemini tamamlamak için kapalı grafit odasının üzerinde 2300 ° C'lik yüksek sıcaklıkta SiC tek kristali, büyüme döngüsü uzundur, kontrol edilmesi zordur ve mikrotübüllere, kalıntılara ve diğer kusurlar.

(2) Silisyum karbür tek kristali, 200'den fazla farklı kristal tipini içerir, ancak genel olarak yalnızca bir kristal tipinin üretimi, büyüme sürecinde kristal tipi dönüşümün üretilmesi kolay, çoklu tip kapanım kusurlarına neden olur, tek bir hazırlama süreci Belirli bir kristal tipinin proses stabilitesini kontrol etmesi zordur, örneğin mevcut ana akım 4H tipi.

(3) Silisyum karbür tek kristal büyüme termal alanında bir sıcaklık gradyanı vardır, kristal büyüme sürecinde doğal bir iç gerilim oluşur ve bunun sonucunda ortaya çıkan dislokasyonlar, arızalar ve diğer kusurlar tetiklenir.

(4) Silisyum karbür tek kristal büyüme prosesinin, çok yüksek saflıkta yarı yalıtkan bir kristal veya yönlü katkılı iletken kristal elde etmek için dış yabancı maddelerin girişini sıkı bir şekilde kontrol etmesi gerekir.RF cihazlarında kullanılan yarı yalıtkan silisyum karbür substratlar için, elektriksel özelliklerin, çok düşük safsızlık konsantrasyonunun ve kristaldeki spesifik nokta kusurlarının kontrol edilmesiyle elde edilmesi gerekir.