12 inç SIC alt tabaka silisyum karbür birincil sınıf çap 300 mm büyük boy 4H-N Yüksek güç cihazı ısı dağılımı için uygundur
Ürün özellikleri
1. Yüksek ısı iletkenliği: Silisyum karbürün ısı iletkenliği, silikonun 3 katından fazladır, bu da yüksek güçlü cihazların ısı dağılımı için uygundur.
2. Yüksek kırılma alanı dayanımı: Kırılma alanı dayanımı, silikonun 10 katı olup, yüksek basınç uygulamaları için uygundur.
3.Geniş bant aralığı: Bant aralığı 3,26 eV'dir (4H-SiC), yüksek sıcaklık ve yüksek frekans uygulamaları için uygundur.
4. Yüksek sertlik: Mohs sertliği 9.2 olup elmastan sonra ikinci sıradadır, mükemmel aşınma direnci ve mekanik mukavemete sahiptir.
5. Kimyasal kararlılık: güçlü korozyon direnci, yüksek sıcaklık ve zorlu ortamlarda kararlı performans.
6. Büyük boyut: 12 inç (300 mm) alt tabaka, üretim verimliliğini artırır, birim maliyetini düşürür.
7.Düşük kusur yoğunluğu: Düşük kusur yoğunluğu ve yüksek tutarlılığı garanti etmek için yüksek kaliteli tek kristal büyüme teknolojisi.
Ürünün ana uygulama yönü
1. Güç elektroniği:
Mosfetler: Elektrikli araçlarda, endüstriyel motor sürücülerinde ve güç dönüştürücülerinde kullanılır.
Diyotlar: Schottky diyotlar (SBD) gibi, verimli doğrultma ve anahtarlama güç kaynakları için kullanılır.
2. Radyo frekanslı cihazlar:
RF güç amplifikatörü: 5G haberleşme baz istasyonlarında ve uydu haberleşmelerinde kullanılır.
Mikrodalga cihazlar: Radar ve kablosuz haberleşme sistemleri için uygundur.
3. Yeni enerji araçları:
Elektrikli tahrik sistemleri: Elektrikli araçlar için motor kontrolörleri ve invertörler.
Şarj yığını: Ekipmanların hızlı şarjı için güç modülü.
4. Endüstriyel uygulamalar:
Yüksek gerilim invertörü: Endüstriyel motor kontrolü ve enerji yönetimi için.
Akıllı şebeke: HVDC iletimi ve güç elektroniği trafoları için.
5. Havacılık ve Uzay:
Yüksek sıcaklık elektroniği: Havacılık ekipmanlarının yüksek sıcaklık ortamlarına uygundur.
6. Araştırma alanı:
Geniş bant aralıklı yarı iletken araştırması: yeni yarı iletken malzemeler ve cihazların geliştirilmesi için.
12 inçlik silisyum karbür alt tabaka, yüksek termal iletkenlik, yüksek bozulma alanı gücü ve geniş bant aralığı gibi mükemmel özelliklere sahip bir tür yüksek performanslı yarı iletken malzeme alt tabakasıdır. Güç elektroniği, radyo frekans cihazları, yeni enerji araçları, endüstriyel kontrol ve havacılıkta yaygın olarak kullanılır ve yeni nesil verimli ve yüksek güçlü elektronik cihazların geliştirilmesini teşvik etmek için önemli bir malzemedir.
Silisyum karbür alt tabakaları şu anda AR gözlükleri gibi tüketici elektroniğinde daha az doğrudan uygulamaya sahip olsa da, verimli güç yönetimi ve minyatür elektroniklerdeki potansiyelleri gelecekteki AR/VR cihazları için hafif, yüksek performanslı güç kaynağı çözümlerini destekleyebilir. Şu anda, silisyum karbür alt tabakanın ana gelişimi yeni enerji araçları, iletişim altyapısı ve endüstriyel otomasyon gibi endüstriyel alanlarda yoğunlaşmıştır ve yarı iletken endüstrisinin daha verimli ve güvenilir bir yönde gelişmesini teşvik etmektedir.
XKH, kapsamlı teknik destek ve hizmetler de dahil olmak üzere yüksek kaliteli 12" SIC alt tabakaları sağlamaya kendini adamıştır:
1. Özelleştirilmiş üretim: Müşteri ihtiyaçlarına göre farklı özdirenç, kristal yönelimi ve yüzey işleme alt tabakası sağlamak.
2. Proses optimizasyonu: Ürün performansını iyileştirmek için müşterilere epitaksiyel büyüme, cihaz üretimi ve diğer proseslerde teknik destek sağlayın.
3. Test ve sertifikasyon: Alt tabakanın endüstri standartlarını karşıladığından emin olmak için sıkı kusur tespiti ve kalite sertifikasyonu sağlayın.
4. Ar-Ge işbirliği: Teknolojik yeniliği teşvik etmek için müşterilerle birlikte yeni silisyum karbür cihazları geliştirmek.
Veri grafiği
1 2 inç Silisyum Karbür (SiC) Alt Tabaka Spesifikasyonu | |||||
Seviye | ZeroMPD Üretimi Sınıf(Z Sınıfı) | Standart Üretim Sınıf(P Sınıfı) | Sahte Sınıf (D Sınıfı) | ||
Çap | 3 0 0 mm~305 mm | ||||
Kalınlık | 4H-N | 750μm±15μm | 750μm±25μm | ||
4H-SI | 750μm±15μm | 750μm±25μm | |||
Wafer Yönlendirmesi | Eksen dışı: 4H-N için <1120 >±0,5°'ye doğru 4,0°, Eksen üzerinde: 4H-SI için <0001>±0,5° | ||||
Mikroboru Yoğunluğu | 4H-N | ≤0,4 cm-2 | ≤4cm-2 | ≤25cm-2 | |
4H-SI | ≤5cm-2 | ≤10cm-2 | ≤25cm-2 | ||
Dirençlilik | 4H-N | 0,015~0,024 Ω·cm | 0,015~0,028 Ω·cm | ||
4H-SI | ≥1E10 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||
Birincil Düz Yönlendirme | {10-10} ±5,0° | ||||
Birincil Düz Uzunluk | 4H-N | Yok | |||
4H-SI | Çentik | ||||
Kenar Dışlama | 3 mm | ||||
LTV/TTV/Yay/Çarpık | ≤5μm/≤15μm/≤35 μm/≤55 μm | ≤5μm/≤15μm/≤35 □ μm/≤55 □ μm | |||
Pürüzlülük | Polonya Ra≤1 nm | ||||
CMP Ra≤0,2 nm | Ra≤0,5 nm | ||||
Yüksek Yoğunluklu Işıkla Kenar Çatlakları Yüksek Yoğunluklu Işıkla Altıgen Plakalar Yüksek Yoğunluklu Işığa Göre Politip Alanları Görsel Karbon Kapanımları Yüksek Yoğunluklu Işık Nedeniyle Silikon Yüzey Çizikleri | Hiçbiri Toplam alan ≤0,05% Hiçbiri Toplam alan ≤0,05% Hiçbiri | Toplam uzunluk ≤ 20 mm, tek uzunluk ≤ 2 mm Toplam alan ≤0,1% Toplam alan≤%3 Toplam alan ≤%3 Toplam uzunluk≤1×wafer çapı | |||
Yüksek Yoğunluklu Işıkla Kenar Çipleri | Hiçbirine izin verilmez ≥0,2 mm genişlik ve derinlik | 7'ye izin verildi, her biri ≤1 mm | |||
(TSD) Vida çıkığı dişlisi | ≤500 cm-2 | Yok | |||
(BPD) Taban düzlemi çıkığı | ≤1000 cm-2 | Yok | |||
Yüksek Yoğunluklu Işık Tarafından Silikon Yüzey Kirlenmesi | Hiçbiri | ||||
Ambalajlama | Çoklu Gofret Kaset veya Tek Gofret Kabı | ||||
Notlar: | |||||
1 Kusur sınırları kenar dışlama alanı hariç tüm gofret yüzeyi için geçerlidir. 2Çizikler sadece Si yüzünde kontrol edilmelidir. 3 Dislokasyon verileri yalnızca KOH ile aşındırılmış gofretlerden elde edilmiştir. |
XKH, büyük boyutta, düşük kusurlu ve yüksek tutarlılıkta 12 inç silikon karbür alt tabakaların atılımını desteklemek için araştırma ve geliştirmeye yatırım yapmaya devam edecekken, XKH tüketici elektroniği (AR/VR cihazları için güç modülleri gibi) ve kuantum hesaplama gibi gelişmekte olan alanlardaki uygulamalarını araştırıyor. XKH, maliyetleri düşürerek ve kapasiteyi artırarak yarı iletken endüstrisine refah getirecek.
Ayrıntılı Diyagram


