12 inç SiC Substrat N Tipi Büyük Boy Yüksek Performanslı RF Uygulamaları
Teknik parametreler
12 inç Silisyum Karbür (SiC) Alt Tabaka Spesifikasyonu | |||||
Seviye | ZeroMPD Üretimi Sınıf(Z Sınıfı) | Standart Üretim Sınıf(P Sınıfı) | Sahte Sınıf (D Sınıfı) | ||
Çap | 3 0 0 mm~1305 mm | ||||
Kalınlık | 4H-N | 750μm±15μm | 750μm±25μm | ||
4H-SI | 750μm±15μm | 750μm±25μm | |||
Wafer Yönlendirmesi | Eksen dışı: 4H-N için <1120 >±0,5°'ye doğru 4,0°, Eksen üzerinde: 4H-SI için <0001>±0,5° | ||||
Mikroboru Yoğunluğu | 4H-N | ≤0,4 cm-2 | ≤4cm-2 | ≤25cm-2 | |
4H-SI | ≤5cm-2 | ≤10cm-2 | ≤25cm-2 | ||
Dirençlilik | 4H-N | 0,015~0,024 Ω·cm | 0,015~0,028 Ω·cm | ||
4H-SI | ≥1E10 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||
Birincil Düz Yönlendirme | {10-10} ±5,0° | ||||
Birincil Düz Uzunluk | 4H-N | Yok | |||
4H-SI | Çentik | ||||
Kenar Dışlama | 3 mm | ||||
LTV/TTV/Yay/Çarpık | ≤5μm/≤15μm/≤35 μm/≤55 μm | ≤5μm/≤15μm/≤35 □ μm/≤55 □ μm | |||
Pürüzlülük | Polonya Ra≤1 nm | ||||
CMP Ra≤0,2 nm | Ra≤0,5 nm | ||||
Yüksek Yoğunluklu Işıkla Kenar Çatlakları Yüksek Yoğunluklu Işıkla Altıgen Plakalar Yüksek Yoğunluklu Işığa Göre Politip Alanları Görsel Karbon Kapanımları Yüksek Yoğunluklu Işık Nedeniyle Silikon Yüzey Çizikleri | Hiçbiri Toplam alan ≤0,05% Hiçbiri Toplam alan ≤0,05% Hiçbiri | Toplam uzunluk ≤ 20 mm, tek uzunluk ≤ 2 mm Toplam alan ≤0,1% Toplam alan≤%3 Toplam alan ≤%3 Toplam uzunluk≤1×wafer çapı | |||
Yüksek Yoğunluklu Işıkla Kenar Çipleri | Hiçbirine izin verilmez ≥0,2 mm genişlik ve derinlik | 7'ye izin verildi, her biri ≤1 mm | |||
(TSD) Vida çıkığı dişlisi | ≤500 cm-2 | Yok | |||
(BPD) Taban düzlemi çıkığı | ≤1000 cm-2 | Yok | |||
Yüksek Yoğunluklu Işık Tarafından Silikon Yüzey Kirlenmesi | Hiçbiri | ||||
Ambalajlama | Çoklu Gofret Kaset veya Tek Gofret Kabı | ||||
Notlar: | |||||
1 Kusur sınırları kenar dışlama alanı hariç tüm gofret yüzeyi için geçerlidir. 2Çizikler sadece Si yüzünde kontrol edilmelidir. 3 Dislokasyon verileri yalnızca KOH ile aşındırılmış gofretlerden elde edilmiştir. |
Temel Özellikler
1. Büyük Boyut Avantajı: 12 inç SiC alt tabakası (12 inç silisyum karbür alt tabakası), daha büyük tek yonga alanı sunarak yonga başına daha fazla çip üretilmesini sağlar, böylece üretim maliyetleri azaltılır ve verim artırılır.
2. Yüksek Performanslı Malzeme: Silisyum karbürün yüksek sıcaklık direnci ve yüksek bozulma alanı mukavemeti, 12 inçlik alt tabakayı EV invertörleri ve hızlı şarj sistemleri gibi yüksek voltajlı ve yüksek frekanslı uygulamalar için ideal hale getirir.
3. İşleme Uyumluluğu: SiC'nin yüksek sertliğine ve işleme zorluklarına rağmen, 12 inçlik SiC alt tabaka, optimize edilmiş kesme ve parlatma teknikleri sayesinde daha düşük yüzey kusurlarına ulaşarak cihaz verimini artırır.
4. Üstün Isı Yönetimi: Silikon bazlı malzemelerden daha iyi ısı iletkenliğine sahip olan 12 inçlik alt tabaka, yüksek güçlü cihazlarda ısı dağılımını etkili bir şekilde ele alarak ekipman ömrünü uzatır.
Ana Uygulamalar
1. Elektrikli Araçlar: 12 inç SiC alt tabakası (12 inç silisyum karbür alt tabakası), menzili artıran ve şarj süresini azaltan yüksek verimli invertörlerin kullanılmasını sağlayan yeni nesil elektrikli tahrik sistemlerinin temel bir bileşenidir.
2. 5G Baz İstasyonları: Büyük boyutlu SiC alt tabakaları, yüksek frekanslı RF cihazlarını destekleyerek, 5G baz istasyonlarının yüksek güç ve düşük kayıp taleplerini karşılar.
3.Endüstriyel Güç Kaynakları: Güneş enerjisi invertörlerinde ve akıllı şebekelerde, 12 inçlik alt tabaka enerji kaybını en aza indirirken daha yüksek voltajlara dayanabilir.
4.Tüketici Elektroniği: Gelecekteki hızlı şarj cihazları ve veri merkezi güç kaynakları, kompakt boyut ve daha yüksek verimlilik elde etmek için 12 inç SiC alt tabakaları benimseyebilir.
XKH'nin Hizmetleri
12 inç SiC alt tabakaları (12 inç silisyum karbür alt tabakaları) için özelleştirilmiş işleme hizmetlerinde uzmanlaştık. Bunlara şunlar dahildir:
1. Kesme ve Parlatma: Müşteri gereksinimlerine göre uyarlanmış, düşük hasarlı, yüksek düzlükte alt tabaka işleme, istikrarlı cihaz performansı sağlar.
2. Epitaksiyel Büyüme Desteği: Çip üretimini hızlandırmak için yüksek kaliteli epitaksiyel yonga hizmetleri.
3. Küçük Parti Prototipleme: Araştırma kurumları ve işletmeler için Ar-Ge doğrulamasını destekler, geliştirme döngülerini kısaltır.
4. Teknik Danışmanlık: Malzeme seçiminden proses optimizasyonuna kadar uçtan uca çözümler sunarak müşterilerin SiC işleme zorluklarının üstesinden gelmelerine yardımcı oluyoruz.
İster seri üretim ister özel özelleştirme için olsun, 12 inç SiC alt tabaka hizmetlerimiz projenizin ihtiyaçlarına uyum sağlayarak teknolojik gelişmeleri güçlendirir.


