Ni Substrat/wafer tek kristal kübik yapı a=3.25A yoğunluk 8.91
Şartname
Ni substratlarının <100>, <110> ve <111> gibi kristalografik yönelimleri, malzemenin yüzeyinin ve etkileşim özelliklerinin belirlenmesinde çok önemli bir rol oynar. Bu yönelimler, epitaksiyel katmanların hassas şekilde büyümesini destekleyen, farklı ince film malzemeleriyle kafes eşleştirme yetenekleri sağlar. Ayrıca nikelin korozyon direnci onu zorlu ortamlarda dayanıklı kılar; bu da havacılık, denizcilik ve kimyasal işleme uygulamaları için faydalıdır. Mekanik mukavemeti ayrıca Ni substratlarının fiziksel işleme ve deney zorluklarına bozulmadan dayanabilmesini sağlar ve ince film biriktirme ve kaplama teknolojileri için sağlam bir temel sağlar. Termal, elektriksel ve mekanik özelliklerin bu kombinasyonu, Ni substratlarını nanoteknoloji, yüzey bilimi ve elektronik alanındaki ileri araştırmalar için gerekli kılmaktadır.
Nikelin özellikleri, 48-55 HRC kadar sert olabilen yüksek sertlik ve mukavemeti içerebilir. Özellikle asit ve alkalilere ve diğer kimyasal ortamlara karşı iyi korozyon direnci, mükemmel korozyon direncine sahiptir. İyi elektriksel iletkenlik ve manyetizma, elektromanyetik alaşımların imalatının ana bileşenlerinden biridir.
Nikel, elektronik bileşenler için iletken malzeme ve kontak malzemesi olarak birçok alanda kullanılabilir. Piller, motorlar, transformatörler ve diğer elektromanyetik ekipmanların üretiminde kullanılır. Elektronik konnektörlerde, iletim hatlarında ve diğer elektrik sistemlerinde kullanılır. Kimyasal ekipmanlar, konteynerler, boru hatları vb. için yapısal bir malzeme olarak. Yüksek korozyon direnci gereksinimleri olan kimyasal reaksiyon ekipmanlarının üretiminde kullanılır. Malzemelerin korozyon direncinin kesinlikle gerekli olduğu farmasötik, petrokimya ve diğer alanlarda kullanılır.
Nikel (Ni) substratlar, çok yönlü fiziksel, kimyasal ve kristalografik özelliklerinden dolayı çeşitli bilimsel ve endüstriyel alanlarda çok sayıda uygulama alanı bulmaktadır. Aşağıda Ni substratlarının bazı temel uygulamaları verilmiştir: Nikel substratlar, ince filmlerin ve epitaksiyel katmanların biriktirilmesinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Ni substratlarının <100>, <110> ve <111> gibi spesifik kristalografik yönelimleri, çeşitli malzemelerle kafes uyumu sağlayarak ince filmlerin hassas ve kontrollü büyümesine olanak tanır. Ni substratları genellikle manyetik depolama cihazlarının, sensörlerin ve spintronik cihazların geliştirilmesinde kullanılır; burada elektron dönüşünü kontrol etmek, cihaz performansını iyileştirmenin anahtarıdır. Nikel, su ayrıştırma ve yakıt hücresi teknolojisinde kritik olan hidrojen oluşum reaksiyonları (HER) ve oksijen oluşum reaksiyonları (OER) için mükemmel bir katalizördür. Ni substratları genellikle bu uygulamalarda katalitik kaplamalar için destek malzemeleri olarak kullanılır ve verimli enerji dönüşüm süreçlerine katkıda bulunur.
Ni Tek kristal substratın çeşitli özelliklerini, kalınlıklarını ve şekillerini müşterilerin özel gereksinimlerine göre özelleştirebiliriz.