Ni Alt tabaka/gofret tek kristal kübik yapı a=3.25A yoğunluk 8.91
Şartname
Ni alt tabakalarının <100>, <110> ve <111> gibi kristalografik yönelimleri, malzemenin yüzey ve etkileşim özelliklerinin belirlenmesinde önemli bir rol oynar. Bu yönelimler, farklı ince film malzemeleriyle kafes eşleştirme yetenekleri sağlayarak epitaksiyel katmanların hassas büyümesini destekler. Ayrıca, nikelin korozyon direnci, zorlu ortamlarda dayanıklı olmasını sağlar ve bu da havacılık, denizcilik ve kimyasal işleme uygulamaları için faydalıdır. Mekanik mukavemeti, Ni alt tabakalarının bozulmadan fiziksel işleme ve deneylerin zorluklarına dayanabilmesini sağlayarak ince film biriktirme ve kaplama teknolojileri için istikrarlı bir temel sağlar. Termal, elektriksel ve mekanik özelliklerin bu birleşimi, Ni alt tabakalarını nanoteknoloji, yüzey bilimi ve elektronik alanlarında ileri araştırmalar için vazgeçilmez kılar.
Nikel, 48-55 HRC'ye kadar çıkabilen yüksek sertlik ve mukavemet gibi özelliklere sahiptir. Özellikle asit, alkali ve diğer kimyasal ortamlara karşı iyi korozyon direncine sahiptir. İyi elektriksel iletkenlik ve manyetizma, elektromanyetik alaşımların üretiminde kullanılan temel bileşenlerden biridir.
Nikel, elektronik bileşenlerde iletken malzeme ve kontak malzemesi gibi birçok alanda kullanılabilir. Pil, motor, transformatör ve diğer elektromanyetik ekipmanların üretiminde kullanılır. Elektronik konnektörlerde, iletim hatlarında ve diğer elektrik sistemlerinde kullanılır. Kimyasal ekipman, kap, boru hattı vb. için yapısal malzeme olarak kullanılır. Yüksek korozyon direnci gerektiren kimyasal reaksiyon ekipmanlarının üretiminde kullanılır. İlaç, petrokimya ve malzemelerin korozyon direncinin kesinlikle gerekli olduğu diğer alanlarda kullanılır.
Nikel (Ni) alt tabakaları, çok yönlü fiziksel, kimyasal ve kristalografik özellikleri nedeniyle çeşitli bilimsel ve endüstriyel alanlarda çok sayıda uygulama alanı bulmaktadır. Aşağıda Ni alt tabakalarının bazı temel uygulamaları listelenmiştir: Nikel alt tabakaları, ince filmlerin ve epitaksiyel katmanların biriktirilmesinde yaygın olarak kullanılır. Ni alt tabakalarının <100>, <110> ve <111> gibi spesifik kristalografik yönelimleri, çeşitli malzemelerle kafes uyumu sağlayarak ince filmlerin hassas ve kontrollü bir şekilde büyütülmesine olanak tanır. Ni alt tabakaları genellikle manyetik depolama cihazları, sensörler ve spintronik cihazların geliştirilmesinde kullanılır; bu cihazlarda elektron spinini kontrol etmek cihaz performansını iyileştirmede anahtar rol oynar. Nikel, su ayrıştırma ve yakıt hücresi teknolojisinde kritik öneme sahip olan hidrojen evrim reaksiyonları (HER) ve oksijen evrim reaksiyonları (OER) için mükemmel bir katalizördür. Ni alt tabakaları genellikle bu uygulamalarda katalitik kaplamalar için destek malzemesi olarak kullanılır ve verimli enerji dönüşüm süreçlerine katkıda bulunur.
Müşterilerin özel ihtiyaçlarına göre Ni Tek kristal alt tabakanın çeşitli özelliklerini, kalınlıklarını ve şekillerini özelleştirebiliriz.
Ayrıntılı Diyagram

