6 inç GaN-On-Sapphire

Kısa Açıklama:

150 mm 6 inç Silikon/Safir/SiC Epi-katmanlı GaN gofret Galyum nitrür epitaksiyel gofret

6 inçlik safir alt tabaka levhası, safir alt tabaka üzerine yetiştirilen galyum nitrür (GaN) katmanlarından oluşan yüksek kaliteli bir yarı iletken malzemedir. Bu malzeme mükemmel elektronik iletim özelliklerine sahiptir ve yüksek güçlü ve yüksek frekanslı yarı iletken cihazların üretimi için idealdir.


Özellikler

150 mm 6 inç Silikon/Safir/SiC Epi-katmanlı GaN gofret Galyum nitrür epitaksiyel gofret

6 inçlik safir alt tabaka levhası, safir alt tabaka üzerine yetiştirilen galyum nitrür (GaN) katmanlarından oluşan yüksek kaliteli bir yarı iletken malzemedir. Bu malzeme mükemmel elektronik iletim özelliklerine sahiptir ve yüksek güçlü ve yüksek frekanslı yarı iletken cihazların üretimi için idealdir.

Üretim yöntemi: Üretim süreci, metal-organik kimyasal buhar biriktirme (MOCVD) veya moleküler ışın epitaksisi (MBE) gibi gelişmiş teknikler kullanılarak safir alt tabaka üzerine GaN katmanlarının büyütülmesini içerir. Biriktirme işlemi, yüksek kristal kalitesi ve düzgün film sağlamak için kontrollü koşullar altında gerçekleştirilir.

6 inç GaN-On-Sapphire uygulamaları: 6 inç safir alt tabakalı çipler, mikrodalga iletişiminde, radar sistemlerinde, kablosuz teknolojide ve optoelektronikte yaygın olarak kullanılmaktadır.

Bazı yaygın uygulamalar şunlardır:

1. RF güç amplifikatörü

2. LED aydınlatma sektörü

3. Kablosuz ağ iletişim ekipmanı

4. Yüksek sıcaklık ortamındaki elektronik cihazlar

5. Optoelektronik cihazlar

Ürün özellikleri

- Boyut: Yüzeyin çapı 6 inç (yaklaşık 150 mm) dir.

- Yüzey kalitesi: Mükemmel ayna kalitesi sağlamak için yüzey ince bir şekilde parlatılmıştır.

- Kalınlık: GaN katmanının kalınlığı, özel gereksinimlere göre özelleştirilebilir.

- Ambalaj: Taşıma sırasında hasarı önlemek için alt tabaka, antistatik malzemelerle özenle paketlenmiştir.

- Konumlandırma kenarları: Alt tabaka, cihaz hazırlığı sırasında hizalamayı ve çalışmayı kolaylaştıran özel konumlandırma kenarlarına sahiptir.

- Diğer parametreler: İncelik, direnç ve katkı konsantrasyonu gibi belirli parametreler müşteri gereksinimlerine göre ayarlanabilir.

Üstün malzeme özellikleri ve çeşitli uygulama alanlarıyla 6 inçlik safir alt tabaka levhaları, çeşitli sektörlerde yüksek performanslı yarı iletken cihazların geliştirilmesi için güvenilir bir tercihtir.

Alt tabaka

6” 1mm <111> p-tipi Si

6” 1mm <111> p-tipi Si

Epi Kalın Ortalama

~5um

~7um

Epi ThickUnif

<%2

<%2

Yay

+/-45um

+/-45um

Çatlama

<5mm

<5mm

Vertical BV

>1000V

>1400V

HEMT Al%

%25-35

%25-35

HEMT KalınOrtalama

20-30nm

20-30nm

Yerinde SiN Kapağı

5-60nm

5-60nm

2DEG konsantresi.

~1013cm-2

~1013cm-2

Hareketlilik

~2000cm2/Vs (<2%)

~2000cm2/Vs (<2%)

Rsh

<330ohm/sq (<2%)

<330ohm/sq (<2%)

Ayrıntılı Diyagram

6 inç GaN-On-Sapphire
6 inç GaN-On-Sapphire

  • Öncesi:
  • Sonraki:

  • İlgili Ürünler

    Mesajınızı buraya yazın ve bize gönderin.